High-k/metalgate

High-k stands for high dielectric constant, a measure of how much charge a material can hold. Air is the reference point for this constant and has a k of ...

2019年8月5日 — 閎康科技是專門做「分析檢測」的專業實驗室，為了推廣科學知識、探討一些熱門的科技主題，我們會定期在官網推出「技術文章」，歡迎大家一起追蹤閎康 ...

In the semiconductor industry, the term high-κ dielectric refers to a material with a high dielectric constant (κ, kappa), as compared to silicon dioxide.

2007年12月24日 — Dual high-k非常容易導入現行標準CMOS製程的「gate初始製程」中，如圖二所示。因此，隨著high-k/metal gate的導入，得以抑制製造成本的增加及產率的降低。

由 J Robertson 著作 · 2015 · 被引用 734 次 — The incorporation of high-K dielectrics with metal gates into a manufacturable, high volume transistor process is the result of tremendous ingenuity and effort ...

Electrode and Dielectric When the gate is pulsed, current flows between the source and drain. Intel's High-K/Metal Gate technology enabled elements on a chip to ...

2022年11月8日 — 栅极由绝缘膜(栅氧化层, gate oxide)和电极(栅电极, gate electrode)组成，在晶体管开关功能中发挥主要作用。栅氧化层由SiON氧化物绝缘体和聚硅基电极组成 ...

論文摘要經過多年的發展與研究，高介電係數(high-k)絕緣層取代傳統SiO2絕緣層是一種有效的方式去解決閘極漏電問題，特別是HfO2。

A 32 nm gate-first high-k/metal-gate technology is demonstrated with the strongest performance reported to date to the best of our knowledge.